最近，韩国半导体、显示器、二次电池等三大“超级差距技术”被盗取到中国，给韩国带来巨大损失，但其犯罪收益难以收回。有人指出，技术泄露犯罪很难证明嫌疑，处罚也不痛不痒，再加上犯罪收益追缴不到位，因此很难从结构上根除商业间谍。
其中，三星电子子公司“SEMES”半导体清洗设备技术泄露事件就是代表性的事例。水原地方检察厅于2022年5月和去年1月以涉嫌向中国泄露全球率先开发的“超临界半导体清洗设备”核心图纸和“湿式清洗设备”技术，指控前研究员南某等人，并对南某和涉事企业S公司要求追缴保全584亿韩元。追缴保全是在确定判决前禁止和冻结财产处理的措施。
然而，一审法庭认定了南某和S公司的嫌疑，判处其有期徒刑9年并罚款10亿韩元，但并未判处没收或追缴其犯罪收益。本月9日的上诉审也仅将有期徒刑从9年延长至10年，罚款15亿韩元上调至20亿韩元，并未判处追缴金。
韩国检方在上述宣判后，有人担心称，“即使服刑10年，S公司通过设备出口赚取的1000亿韩元也会原封不动地进入其口袋”。一位部长检察官对此表示，“技术泄露的具体损失额很难推算，追缴也很困难”，“需要新设包含分段没收规定等内容的特别法”。
受最高检察院委托，上月撰写《技术泄露损失金额计算等相关研究》报告的韩国科学技术院教授全宇正(音)表示，“‘商业秘密’不同于公开的技术‘专利’，即使在法庭上，企业也不愿意公开，因此就很难估算损失额”，“再加上让海外法人获得民事、刑事上的救济，从外交问题到举证都很困难，实际上局限性很大”。
此刻，中国借助“商业间谍”在半导体、电池等尖端技术领域猛烈追赶着韩国。据总统直属国家知识财产委员会上月透露，最近5年技术向境外外流事例有92起，依次为半导体24起、显示器20起、二次电池7起。
本月3日，三星电子前部长金某和合作公司职员方某因涉嫌将半导体蒸镀设备相关商业秘密泄露给中国，而被首尔中央地方检察厅拘留起诉，这就是典型事例。
据韩国检方透露，他们在2022年2月至3月接受了中国公司的开发建议，在合作公司办公室打印了1120张设计图，装在汽车上运出，或通过中国企业服务器或微信等上传600页以上的商业秘密，以此转移了核心技术。
还有个典型事例，韩国国内半导体业界的传奇人物崔某(56岁)曾试图在中国建造“三星电子克隆工厂”，但最终以失败告终。崔某在三星电子工作18年担任常务后退休，曾任海力士半导体副社长。但他在最后接受了台湾富士康的建议，内容则为“将投入8万亿韩元，在中国建造20纳米级DRAM半导体生产工厂”。
结果，富士康的建议最终告吹，但崔某因涉嫌引进韩国国内200多名半导体核心人才，并盗取三星电子西安工厂设计图等，于去年6月被水原地方检察厅拘留起诉。但崔某在5个月后向法院缴纳5000万韩元保证金后被保释。
检方相关人士表示，“毕竟此类犯罪的最大原因在于人的欲望，因此消除犯罪诱因非常重要”，“实际上，当务之急是改变‘即使服刑也能够获得巨大金钱利益’的认识”。
