据悉，三星电子和荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)决定在韩国京畿道华城市东滩尖端产业园区附近建立未来半导体技术研发中心。阿斯麦与半导体制造企业在海外设立研发中心尚属首次。三星电子和阿斯麦两家公司13日表示，于12日(当地时间)双方已决定共投入7亿欧元(约1万亿韩元)共同设立和运营旨在研究新一代半导体制造技术的研发中心。三星电子DS(半导体部门)社长庆桂贤表示，“加强与阿斯麦的合作，将为欧洲半导体价值链和全球供应链的稳定做出巨大贡献”。

该研究中心设立的主要目的是以新一代极紫外线光刻技术(EUV)为基础，开发超精密制造工艺及其所需的光刻机。在全世界唯有阿斯麦可生产的EUV光刻机是半导体晶片上制作集成电路的核心设备。半导体电路的线宽越细，性能就越高，EUV光刻机是对于7纳米以下微电路制造是必不可少的设备。

半导业行业都在高度关注存储芯片和芯片设备领域两大巨头之间的同盟。EUV光刻机一直被认为是芯片代工超精密加工方面必不可少的设备，而最近也成为了最尖端存储芯片(DRAM‧动态随机存取存储器)工程的核心。因为从DRAM14纳米工艺起，由于投入产出比率和生产单价等问题，必须使用EUV。三星电子方面表示，“计划通过此次合作，尽早开发最尖端存储器所需的新一代EUV量产技术，即将巩固借助超差距优势30年来一直维持的全球存储芯片第一的地位”。

当天，SK海力士也决定与阿斯麦在EUV工业方面共同开发减少能耗和碳排放的环保技术。现代汽车也将与车载半导体市场占有率排名第二的荷兰企业NXP等公司展开合作。

译 | 会庭 校 | 司空宽淑 责编 | 刘尚哲 查看其它新闻