SK海力士将投资15万亿韩元在京畿道利川新建具备极紫外光刻新一代尖端精细工程设备的半导体芯片工厂。SK海力士7月27日召开临时董事会表示将建造一个占地5.3万平方米的新工厂，计划今年年末动工并截至2020年10月竣工。为了打造极紫外光刻专用空间，公司已经先行增加投入3.5万亿韩元进行前期建设。如果加上竣工后安装尖端设备所需投资，总投资规模将达到15万亿韩元。具体产品的种类和规模将根据未来市场情况和公司的技术能力决定。

SK海力士今年第二季度的销售额共计10.3705万亿韩元，创下了历史之最，同比增加55%，较上一季度增加19%。不过，如果截至今年年底中国能够成功实现批量生产32段NandFlash则市场供应量将会增加，人们由此担心产品价格可能会被大大拉低。因此业界普遍认为，SK海力士这一决定旨在应对中国的“半导体崛起”，通过早期投资拉开与中国的技术差距。SK海力士在进入SK系统后不断致力于扩大投资和生产设施，包括利川M14工厂、正在建设的清州工厂和这次宣布新建的利川工厂，总投资规模已经超过46万亿韩元。

考虑到韩国国内经济已经连续几年表现疲软，人们期待这一投资可以对地区经济和雇佣带来积极的影响。首尔大学经济研究所预测，新工厂投产后，到2026年将给韩国带来80.2万亿韩元的经济波及效果，同时还会带来26.2万亿韩元的附加价值和34.8万个就业岗位。

商界推测，投建新工厂应该是SK集团董事长崔泰源的指示。新增投资不仅积极响应了文在寅总统创造雇佣机会的政策，还可以对寻求进入半导体芯片市场的中国形成制约，属于一种战略决策。公司方面强调“这次增加投资与政府和地方自治政府等利益相关方进行了密切沟通”。