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英特尔放弃移动设备5G芯片研发三星获得..
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    SK海力士在华扩张DRAM生产线
    SK海力士4月18日发布称在中国无锡举行了DRAM流水线C2F的竣工仪式。C2F在原有DRAM半导体流水线(C2)的基础上进行扩建，建筑面积达到5.8万平方米(约1.75万坪)。

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